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奥林巴斯共聚焦显微镜半导体检测的精度伙伴半导体行业的“纳米级精度"要求,让传统检测手段力不从心——晶圆的微小划痕、芯片的线宽偏差、光刻胶的缺陷,这些问题需要在“纳米尺度"下被捕捉。奥林巴斯激光共聚焦显微镜翱尝厂5100,以高灵敏度探测与高分辨率成像,成为半导体检测环节的“精度工具"。
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奥林巴斯共聚焦显微镜半导体检测的精度伙伴
半导体行业的“纳米级精度"要求,让传统检测手段力不从心——晶圆的微小划痕、芯片的线宽偏差、光刻胶的缺陷,这些问题需要在“纳米尺度"下被捕捉。奥林巴斯激光共聚焦显微镜翱尝厂5100,以高灵敏度探测与高分辨率成像,成为半导体检测环节的“精度工具"。
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