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白光干涉仪S neox的透明材料测量

产物介绍

白光干涉仪S neox的透明材料测量:Sensofar S neox光学轮廓仪结合共聚焦模式与专用算法,有效克服透明材料测量中因折射和多重反射导致的干扰,实现对其表面形貌与薄膜厚度的精确表征。

产物型号:
更新时间:2025-11-12
厂商性质:代理商
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白光干涉仪S neox的透明材料测量

透明或半透明材料,如玻璃、聚合物薄膜、光学涂层、生物材料等,在众多领域有广泛应用。对这些材料进行表面形貌测量,是质量控制和研究开发中的重要环节。然而,透明材料会给传统的光学测量方法带来挑战,主要原因是光线在穿过材料表面时会发生折射,并在上下界面产生反射,干扰真实的表面形貌信息。Sensofar S neox 3D光学轮廓仪通过其多模式测量技术和专用软件算法,为透明材料的测量提供了可行的思路。

当光线照射到透明材料表面时,一部分光会在空气-材料界面发生反射,这部分光携带了样品表面的形貌信息,是白光干涉测量所需的信号。另一部分光会折射进入材料内部,如果材料底部或内部存在界面,还会产生二次甚至多次反射。这些额外的反射信号会与表面信号混合,导致干涉条纹对比度下降或出现鬼影,使得重建的叁维形貌失真,例如可能测出虚假的台阶或错误的轮廓。
S neox应对这一挑战的方式之一是采用共聚焦测量模式。共聚焦技术通过针孔探测,能有效抑制焦平面以外的散射光和反射光,因此对表面信号更为敏感。对于许多透明样品,使用共聚焦模式可以直接获得表面较为真实的三维形貌,而受下层反射的干扰较小。这使其成为测量单层透明材料表面粗糙度和形貌的常用选择。
对于需要利用白光干涉模式的高垂直分辨率进行测量的情况,或者当需要测量透明薄膜的厚度时,S neox的软件提供了专门的校正算法。用户可以在测量前或测量后,输入透明材料的折射率参数。软件算法会考虑光线在穿过透明层时因折射产生的光程差变化,并对测量得到的形貌数据进行校正,从而得到更接近物理真实的表面高度信息。
对于薄膜厚度测量,白光干涉仪可以利用来自薄膜上表面和下表面的反射光之间的干涉效应。通过分析干涉信号在光谱域或空间域的变化,软件可以计算出薄膜的厚度。S neox具备进行这种测量的能力,为其在微纳米级透明膜层的表征方面提供了应用空间。
需要注意的是,透明材料的测量通常需要根据样品的具体特性进行调整和优化。例如,在样品背面进行消光处理,可以减弱不必要的反射。S neox提供的参数调节灵活性,如光强、滤波设置等,有助于用户优化测量条件,获得更清晰的干涉信号。

总之,Sensofar S neox通过结合共聚焦技术的优势和白光干涉模式的*算法,为透明材料的表面形貌测量提供了有效的工具。它使得对玻璃基板平整度、光学元件表面质量、高分子薄膜粗糙度等的定量分析变得更加可行,拓展了光学轮廓仪的应用范围。

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